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产品资料

产品资料


   Deposition | 沉积

   Sputter | 磁控溅射镀膜机
   E-Beam | 电子束蒸发镀膜系统
   PECVD | 化学气相沉积系统
   Thermal Evaporator | 热蒸发镀膜机
   Optical Coating | 光学镀膜系统

   Etching | 刻蚀

   RIE | 反应离子刻蚀系统
   IBE | 离子束刻蚀系统
   IBM/RIBE | 离子铣/反应离子束刻蚀系统

   Growth | 生长

   PA-MOCVD | 等离子辅助MOCVD系统
   ALD | 原子层沉积系统

   Cleaning | 清洗

   Single Wafer/Mask Cleaner | 单晶圆/掩模板清洗机
   Reticle Cleaner | 分划板清洗机
   Etching/Cleaning System | 等离子刻蚀/清洗机
   MicroWave Plasma Ashing System | 微波等离子清洗去胶系统

   Space Simulation | 热真空

   NDT-4000 Device Test System | 热真空系统

   要获取全部产品的产品彩页,请点击这里下载。

   除了以上提到的一些系统之外,我们提供双系统设备,比如RIE/PECVD,Sputter/PECVD,IBE/RIE,IBE/Sputter,IBE/ALD,RIE/Sputter等等任意两套组合的系统。

   此外,我们可以根据客户需要定制自动上下片的RTP系统,PIII离子注入机,PLD脉冲激光沉积系统等。并可以根据客户要求提供量产设备的定制支持。如需要更多了解,欢迎联系我们