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客户评价

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"2017年8月1日深圳先进技术研究院顺利安装成功NSC-3500磁控溅射系统,整机设计合理,结构优化的非常好,集成度高,占用体积小。NSC-3500磁控溅射系统带6英寸旋转平台,可支持到3个磁控靶,两个直流靶,一个射频靶。系统集成了涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,20分钟左右就可以达到10-6 Torr的真空度,抽真空的速度快。磁控靶与基片之间的距离是可以调整的,通过实验就可以获得表面均匀,一致性好,粘接强度高的镀层。NSC-3500磁控溅射系统还有几个优点:1、基片的RF射频等离子清洗,可以清洗样品,保证表面洁净,镀膜粘接强度高;2、实时膜厚检测,可以获得任意厚度镀层;3、装样取样口,非常方便,不用停止抽真空,镀膜过程节约不少时间;4、程序编写和储存,同一样品直接调用程序,简单快捷。" 


1508398163906615.jpg  -郭瑞彪工程师

   中国科学院深圳先进技术研究院




"I have successfully used the Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition PECVD Model NPE 4000 from Nanomaster for the growth of Vertically Aligned Carbon Nanotube at the University of Puerto Rico at Mayaguez. The NPE-4000 allowed me to synthesize CNTs at low temperatures in large surface areas such as wafers of 10cm diameter, required for our combinatorial studies on CNT growth."

  -Dr. Pablo G. Caceres-Valencia
    Engineering Faculty, University of Puerto Rico at Mayaguez



"我们使用贵公司的NPE-4000PECVD设备,主要用于沉积氮化硅、二氧化硅、氮氧化硅、富硅氮化硅等薄膜材料。所生长的的薄膜均匀性良好、成分厚度可控、薄膜粗糙度也不错。另外,该设备程序化操作,简单方便,很容易上手。整体上设备性能优良,能满足我们对薄膜器件的光学和电学性能的要求。"

浙大  -袁梦博士
    浙江大学硅材料国家重点实验室



"HRL does own and use the SWC-3000 and we are quite happy with it. It’s integral to a number of our processes here."

  -James
    Hughes Research Lab



"NSC-3500磁控溅射镀膜机镀膜方式方便、成本低、易操作,成膜速率高,基片温度低,膜的黏附性好,可实现大面积镀膜等。可获得可见光透过率高及良好电学、光学性能的薄膜,适用于各种压电、气敏和透明导体薄膜。制备的纳米薄膜,纳米颗粒均匀,成膜性好。


1-1FZQ11KIZ.jpg  -刘响博士

   江苏大学机械工程学院




"We are happy with the performance of NSC-4000 Sputtering System. The process is consistent and the results are satisfactory."

   -M. Satheesh Babu - Deputy Manager Metallization Group
      STARC - A Unit Of SITAR at Bangalore