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Depositon Systems 沉积系统
 

Sputter 磁控溅射镀膜
 
E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜
 
Therma Evaporation 热蒸发镀膜
 
PECVD 等离子增强化学气相沉积
 
Optical Coating 光学涂敷
 

Etching Systems 刻蚀系统
 

RIE/ICP/DRIE 反应离子/ICP/DRIE刻蚀
 
Compact IBE 紧凑型离子束刻蚀
 
IBM/RIBE 离子束铣削/反应离子束刻蚀
 

Growth Systems 生长系统
 

PAMOCVD 等离子辅助金属有机化学气相沉积
 
ALD 原子层沉积
 

Cleaning Systems 清洗系统
 

Single Wafer/Mask Cleaner 单片清洗
 
Reticle Cleaner 分划版清洗
 
Plasma Cleaner/Asher 等离子清洗去胶
 
MW Plasma Cleaner/Asher 远程微波清洗去胶
 

Other Systems 其它设备
 

Space Simulation 热真空/器件测试
 
RTP 快速褪火炉
 

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除了以上提到的一些系统之外,我们提供双系统设备,比如RIE/PECVD,Sputter/PECVD,IBE/RIE,IBE/Sputter,IBE/ALD,RIE/Sputter等等任意两套组合的系统。

此外,我们可以根据客户需要定制自动上下片的RTP系统,PIII离子注入机,PLD脉冲激光沉积系统等。并可以根据客户要求提供量产设备的定制支持。如需要更多了解,欢迎联系我们