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双腔体真空工艺系统

NANO-MASTER支持两个系统的任意组合。在产品册上可找到的ALD,溅射,蒸镀,离子铣或IBE,RIE,PECVD等均可以配置为双系统。通过共享真空系统和可能的离子源电源,成本得以下降。腔体通过门阀相互隔离并可以独立抽真空和卸真空。进样室或真空腔体之间的传输可以选配。

  • 特点
  • 选配
  • 应用
** 26”x44”占地面积及密封面板柜体,对超净间非常理想
** 基于计算机全自动工艺控制,菜单驱动
** 控制系统通过选择用户权限自动切换
** LabView友好用户界面
** EMO保护及安全联锁
** 共享两套系统的各自功能(参考各自的系统)