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Large Substrate Cleaning 大基片清洗机

NANO-MASTER大基片清洗机(LSC)是一款独立式清洗机,使用计算机控制,最大可支持外径21”的基片。UWM为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
通过前方面板上的触摸屏和LabView用户界面,与SWC系统相比可以提供更强大的控制,并允许用户控制访问等级,比如操作者、工艺工程师和维护工程师。跟SWC一样,LSC集成了同样的专利技术的兆声技术和化学试剂分布。UWM为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
 UWM为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
LabView控制和更大工艺腔体的组合支持额外的选配项,诸如臭氧化去离子水、高压去离子水、带保护膜的分划板清洗、以及白骨化清洗。 单晶圆和Cassette-to-Cassette自动上下片可选。其中可以通过定制托盘一次放入多片小片实现批处理。

  • 特点
  • 选配
  • 应用
** 最大可支持21”外径,15”x15”方片和450mm的晶圆
** 无损兆声清洗
** 不同转速的PVA刷子
** 带回吸阀的化学试剂分布
** 双排放口用于酸和试剂的分开排放
** 全自动计算机控制,菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 手动上下片
** 安全联锁和报警
** 32”x28”的占地面积