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等离子清洗/灰化系统
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。
- 特点
- 选配
- 应用
** 不锈钢、铝以及钟罩式腔体
** 超净设计,兼容百级超净间使用
** 淋浴头RF离子源
** 旋转样品台
** 260L/Sec抽速的涡轮分子泵
** 极限真空5x10-7Torr
** 偏压样品台可加热到300°C(PID精确控温)或冷却样品台
** 自动或手动RF调谐器
** 最多4路带电抛光不锈钢气体管路的MFC
** 全自动计算机控制,菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 计算机控制的气动阀
** 基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动
** LabView友好用户界面
** EMO及安全联锁
** 超净设计,兼容百级超净间使用
** 淋浴头RF离子源
** 旋转样品台
** 260L/Sec抽速的涡轮分子泵
** 极限真空5x10-7Torr
** 偏压样品台可加热到300°C(PID精确控温)或冷却样品台
** 自动或手动RF调谐器
** 最多4路带电抛光不锈钢气体管路的MFC
** 全自动计算机控制,菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 计算机控制的气动阀
** 基于计算机的全自动工艺控制,菜单驱动
** LabView友好用户界面
** EMO及安全联锁
