0Ak为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
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西安微电子技术研究所的两套微波等离子去胶机成功验收应用两周年之际，那诺中国有限公司正式表达祝贺。自验收开始，截至目前为止，该两套微波等离子去胶机运行稳定正常。0Ak为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
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该两套系统给用户提供了微波等离子去胶、打底膜的能力，均可以支持一次50片的4"片的批处理。系统配套法拉第笼，可以屏蔽静电对晶圆片的影响。该系统在客户的生产工艺的应用方面提供了重要的作用。0Ak为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
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