H5s为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
随着NANO-MASTER独家专利技术的ICP源的深入应用，对于大面积的基片提供均匀高品质的薄膜生长得以实现。到目前为止，NANO-MASTER的ALD系统可以支持在任意尺寸的衬底上的扩展，这给显示和照明等领域带来好消息。H5s为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
H5s为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持
此外，NANO-MASTER同时具备粉末处理能力的扩展。这样，NANO-MASTER系统已经可以支持在任意尺寸和任意形状的固体上进行原子级生长。在应用选择方面，我们支持热ALD和PEALD系统的单独应用，同事也支持ALE/ALD双系统、IBE/ALD双系统、ALD/PECVD双系统、ALD/IBAD双系统等应用，以及ALD跟其它NANO-MASTER任意系统组成的Cluster系统，可以实现多工序工艺在不间断真空的情况下一步完成工艺。