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祝贺中国中车微波去胶机应用超过六周年

2022-04-21

    

1.JPGG4K为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持

     G4K为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持

    中国中车(之前是南车)的微波等离子去胶机成功验收应用一周年之际,那诺中国有限公司正式表达祝贺。自验收开始,截止目前为止,该微波等离子去胶机运行稳定正常。G4K为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持

     G4K为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持

    该系统给用户提供微波等离子去胶、打底膜的能力,可以支持一次40片的6"晶圆片的批处理。系统配套法拉第笼,可以屏蔽静电对晶圆片的影响。该系统在客户的生产工艺的应用方面提供了重要的作用。G4K为科研和工业客户提供物理气相沉积、化学气相沉积、干法刻蚀、湿法刻蚀等薄膜工艺系统的全套解决方案和支持